第282頁

請關閉瀏覽器的閱讀/暢讀/小說模式並且關閉廣告遮蔽過濾功能，避免出現內容無法顯示或者段落錯亂。

「對！誰稀罕他們的5n光刻機啊！」

在眾人的你一言我一語中，羅甘顫抖著手走上前，像是對待自己的戀人一般，輕輕地撫摸那臺冰冷的機器。

國外的光刻機技術一直都很發達，華國的光刻機技術落後他們大約20年的時間。

所以在光刻機這方面的技術，華國一直被捏住喉嚨。

加上黴國近年來一直試圖聯絡何國各個公司，阻礙他們出口光刻機給華國。

因此在光刻機上的研發，迫在眉睫。

之前做出22n的光刻機，已經足夠讓人興奮的了。

雖然國外的技術超前，但是他們同樣不得不在3n的光刻機面前低頭。

3n是光刻機的最小工藝極限，或者說是euv光刻機的最小工藝極限。

最根本的原因來自於奈米光子工藝極限性，即使有多種技術來操縱光，euv光刻機的波長極限就是135n。

並且半導體的主要材料是矽，然而矽原子直徑大約是012n。

10個矽原子排成一列的程度大約為12n，所以想再突破3n的光刻機，那就涉及到了操縱原子的境界。

或者再重新找到合適的波長，對於euv光刻機，3n是目前的最大極限。

所以即使國外能造出5n的光刻機，對於3n的光刻機也無從下手。

這也是華國最好趕超的時候，大家都做不出來，那就等我們一點一點趕上來。

沒想到就在今天，華國直接一躍從22n飛到令國外頭疼的3n。

這如何不讓人激動！

在他們測試的時候，已經有一隊兵哥將研究室圍的密不透風，一隻蒼蠅都別想飛出去。

路過的研究員看到這個場面一驚，這是發生什麼事了？hr

如果覺得不錯，記得收藏網址或推薦給朋友哦拜託啦 ()

span傳送門： ||

</br>

<style type="text/css">

banners6 { width: 300px; height: 250px; }

dia (-width:350px) { banners6 { width: 336px; height: 280px; } }

dia (-width:500px) { banners6 { width: 468px; height: 60px; } }

dia (-width:800px) { banners6 { width: 728px; height: 90px; } }

dia (-width:1280px) { banners6 { width: 970px; height: 250px; } }

</style>

<s class="adsbygoogle banners6" style="display:le-block;" data-full-width-responsive="true" data-ad-client="ca-pub-4468775695592057" data-ad-slot="8853713424"></s>

</br>

</br>